TSMC 2나노 기밀 유출, 대만 법원 최고 징역 10년 선고
메타가이드
3시간 60분전
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전 직원에 중형 판결
대만 지식재산·상업법원은 27일 TSMC 첨단 2나노 공정 기밀 유출 사건과 관련해
전 직원 천리밍에게 징역 10년을 선고했다. 관련자 4명에게도 각각 징역 2년, 3년, 6년과
징역 10개월에 집행유예 3년이 선고됐다.
원문 후보에서도 TSMC 2나노 기술 유출 사건과 징역 10년 판결이 주요 해외 반도체 이슈로 제시됐다.
반도체 기술 보호 강화 흐름
대만 검찰은 TSMC 퇴직 후 도쿄일렉트론으로 이직한 천씨가 TSMC 엔지니어들로부터
휴대전화로 촬영한 2나노 공정 기술 도면 등을 넘겨받았다고 봤다.
이번 판결은 첨단 반도체 기술을 국가 핵심기술로 보호하려는 대만 당국의 강경 기조를
보여주는 사례로, 향후 글로벌 반도체 업계에서는 인력 이동과
기술 유출 방지 체계가 더 중요한 쟁점으로 부각될 전망이다.
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